隨(suí)著微型(xíng)計算(suàn)機(jī)多媒體技術(shù)的發(fā)展和普(pǔ)及
，光學(xué)薄(báo)膜(mó)在(zài)液晶顯(xiǎn)示屏
，CRT顯示(shì)器(qì)等(děng)方(fāng)麵廣(guǎng)泛(fàn)應用(yòng)。為(wéi)了(liǎo)提高(gāo)光(guāng)學薄(báo)膜(mó)的生產效率(shuài)和(hé)改(gǎi)善(shàn)產品質量(liáng)有(yǒu)必(bì)要逐(zhú)步(bù)導(dǎo)入(rù)人工(gōng)智能(néng)鍍膜新技(jì)術。膜厚測(cè)量儀(yí)適用(yòng)於nm及um級薄膜(mó)厚度測量
，測量(liáng)的(dí)空間(jiān)分(fēn)辨率(測(cè)量點的(dí)大小(xiǎo))可(kě)達(dá)10um
，厚(hòu)度測量(liáng)準確(què)度為(wéi)nm級。
 

　　工(gōng)作原理：
 

　　物質(zhì)在被一定波長(cháng)的(dí)X射綫照射時(shí)
，元素將處於(yú)激發(fā)狀(zhuàng)態(tài)而(ér)發射(shè)出光子
，形成(chéng)一(yī)種(zhǒng)特(tè)征X 熒光(guāng)射(shè)綫。每一種(zhǒng)元(yuán)素的能量(liáng)都是(shì)一一(yī)對應(yīng)的
，探(tàn)測 器在接收到(dào)元(yuán)素的特征(zhēng)X熒光射(shè)綫之(zhī)後(hòu)
，可以通(tōng)過其(qí)中的光(guāng)子能(néng)量(liáng)進(jìn)行定性(xìng)分(fēn)析
，還(huán)可通(tōng)過其(qí)中的(dí)光子量(liáng)值(zhí)進行(háng)定量(liáng)分析(xī)。
 

　　膜厚(hòu)測(cè)量(liáng)儀對樣品進行(háng)非接(jiē)觸(chù)式，無損，高(gāo)精度測(cè)量
，可測量反射率，顏色，膜(mó)厚(hòu)等參數(shù)。可應用(yòng)於(yú)光(guāng)伏(fú)，半導(dǎo)體材料(liào)，高(gāo)分子(zǐ)材(cái)料(liào)等薄(báo)膜層(céng)的厚度測量(liáng)
，在半導體，太(tài)陽(yáng)能(néng)，液晶麵(miàn)板和光(guāng)學行業以(yǐ)及科研(yán)所和(hé)高(gāo)校都(dū)得到廣(guǎng)泛的應(yīng)用。
 

　　這裏所指的人工(gōng)智能(néng)鍍膜的含意
，就是(shì)指(zhǐ)在沒有鍍膜(mó)專(zhuān)家的情(qíng)況下(xià)
，也能(néng)按(àn)照zhi定(dìng)的(dí)光學特(tè)性
，實(shí)現自動鍍(dù)膜。一般來說
，這樣的(dí)係(xì)統包(bāo)括(kuò)以(yǐ)下(xià)的幾部分。
 

　　(1)針對鍍膜(mó)機(jī)係統
，建立鍍膜條件(jiàn)及(jí)薄膜(mó)的(dí)光學常數(shù)的數(shù)據庫
；
 

　　(2)薄膜的設計(jì)及(jí)合(hé)成
；
 

　　(3)鍍膜的仿真
，考(kǎo)慮薄(báo)膜(mó)的折(zhē)射率(shuài)及膜(mó)厚的影(yǐng)響(xiǎng)
；
 

　　(4)求出鍍膜條(tiáo)及膜(mó)厚控製(zhì)的數(shù)據
；(5)實際鍍(dù)膜
，測出各層的膜厚及(jí)折(zhē)射
，再做設計(jì)
；
 

　　(6)產品的(dí)性能(néng)測試。