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當前位(wèi)置(zhì):首頁技術文(wén)章暗場散射(shè)光譜(pǔ)丨(gǔn)小(xiǎo)尺度結(jié)構研(yán)究*

暗(àn)場(cháng)散射(shè)光譜丨小尺度結(jié)構研究*

更(gēng)新時(shí)間:2019-03-07點擊次數:6194


概念(niàn)解(jiě)釋:暗場(cháng)顯微(wēi)(英文(wén):Dark-field microscopy)或(huò)稱暗(àn)視野(yě)顯微(英(yīng)文:Dark ground microscopy)描述(shù)光學(xué)顯微(wēi)和電子(zǐ)顯微中的(dí)一(yī)種(zhǒng)特(tè)殊(shū)顯微手法,除去觀(guān)測(cè)物(wù)體以(yǐ)外的(dí)光(guāng)綫(xiàn)或電(diàn)子(zǐ)進入(rù)物(wù)鏡,使目鏡(jìng)中(zhōng)觀(guān)測到的視(shì)野背(bèi)景(jǐng)是黑(hēi)的,隻(zhī)有(yǒu)物(wù)體(tǐ)的邊緣是(shì)亮的(dí)。利用(yòng)這個(gè)方(fāng)法(fǎ)能見到小至 4~200nm的微粒(lì)子,分辨(biàn)率可(kě)比普通(tōng)顯(xiǎn)微(wēi)法高(gāo)50倍(bèi)。
應用(yòng)簡介
暗(àn)場顯(xiǎn)微(wēi)技(jì)術采用光(guāng)學顯微鏡(jìng)結合特(tè)殊的照明和觀察(chá)方式,使得隻有樣(yàng)品(pǐn)大角度(dù)散射(shè)的光(guāng)能(néng)夠進入(rù)物鏡並(bìng)被(bèi)探測到。采用(yòng)暗場顯微技(jì)術,可以克(kè)服(fú)常(cháng)規(guī)光學顯微(明(míng)場(cháng)照明(míng)成像)針對(duì)均一樣品(pǐn)中的微(wēi)小結(jié)構(gòu)成像(xiàng)時,透(tòu)射或(huò)反(fǎn)射襯度不足的問題(tí),使得微小的結(jié)構(gòu)在背景(jǐng)中(zhōng)得(dé)以(yǐ)突出(chū)呈現,特(tè)別適(shì)合顆(kē)粒(lì),纖維,小尺(chǐ)度(dù)界麵等(děng)的(dí)觀測。

圖1 同(tóng)一樣品明場(A),暗(àn)場(cháng)(B)像(xiàng)對(duì)比
位(wèi)於襯(chèn)底,溶(róng)液,膠體(tǐ)或細胞(bāo)中的金屬納(nà)米顆粒(lì)/團(tuán)簇(cù)是典(diǎn)型(xíng)的均(jūn)一樣品中(zhōng)的小尺(chǐ)度(dù)結(jié)構(gòu),因(yīn)此暗場顯(xiǎn)微技術是(shì)一(yī)種(zhǒng)非常(cháng)有效的觀測(cè)手段(duàn)。更(gēng)為(wéi)有趣也更(gēng)為(wéi)重要的(dí)特性是(shì),因為納米顆粒(lì)的介(jiè)觀特(tè)征,表(biǎo)麵活性,它(tā)們對電磁波的響應既不同(tóng)於單獨(dú)的原(yuán)子/分子,也不同於(yú)長(cháng)程有(yǒu)序(xù)的晶體。因此除(chú)了(liǎo)暗場(cháng)散射(shè)成(chéng)像以(yǐ)外(wài),進一(yī)步研究此類(lèi)粒(lì)子(zǐ)散(sàn)射光的光譜特征(zhēng),有助於(yú)理解(jiě)納米顆(kē)粒的(dí)尺(chǐ)度,狀(zhuàng)態(tài),動(dòng)力學過(guò)程,以及(jí)與(yǔ)周邊環境的(dí)相互(hù)作(zuò)用信(xìn)息。暗(àn)場(cháng)散射(shè)光譜(pǔ)廣泛用(yòng)於(yú)金屬納(nà)米(mǐ)顆(kē)粒(lì)研究,表麵納(nà)米(mǐ)結構研究(jiū),納米管(guǎn)及納米(mǐ)綫(xiàn),以(yǐ)及Plasmon Ruler等(děng)。

係統配(pèi)置(zhì)和(hé)關(guān)鍵部件(jiàn)
如(rú)同(tóng)一般(bān)的微(wēi)區(qū)光(guāng)譜係統(tǒng),暗(àn)場散(sàn)射光(guāng)譜(pǔ)可通過暗(àn)場顯微(wēi)鏡(透(tòu)射照明需配(pèi)置(zhì)暗(àn)場聚(jù)光(guāng)器,落射(shè)照明(míng)需配置明暗場(cháng)物鏡(jìng)及落射(shè)暗場照明(míng)器(qì)),成像(xiàng)光柵光譜儀(yí)以(yǐ)及(jí)高(gāo)靈敏度科研級(jí)CCD探(tàn)測器(qì)構(gòu)成。除顯微部分(fēn)外(wài),暗場散射(shè)光(guāng)譜儀的配置主要考(kǎo)慮以(yǐ)下因素:
1)通常(cháng)的(dí)散(sàn)射譜(pǔ)較寬(kuān),一般不(bù)需要太(tài)高的分(fēn)辨(biàn)率(shuài);
2)光譜(pǔ)儀通(tōng)常(cháng)要(yào)兼顧成(chéng)像(xiàng),所以需要(yào)影像(xiàng)矯(jiǎo)正的(dí)光(guāng)譜儀(yí),並配置開度較大的入口(kǒu)狹縫(féng);通常會(huì)在光(guāng)柵位配置一(yī)麵反射鏡用於(yú)成(chéng)像,也可使(shǐ)用光柵(zhà)的(dí)零級(jí)作(zuò)為(wéi)反射鏡來(lái)成像;

圖(tú)2 金(jīn)納(nà)米顆粒透射(shè)暗(àn)場(cháng)散射光譜(pǔ)示意(yì)圖

暗場散射(shè)光譜(pǔ)係統的結構由(yóu)圖3所(suǒ)示。在暗(àn)場(cháng)顯(xiǎn)微鏡的影(yǐng)像出口轉接光(guāng)柵光(guāng)譜(pǔ)儀,顯微(wēi)鏡成(chéng)像於光(guāng)譜(pǔ)儀(yí)入口。光譜儀入口狹縫開(kāi)到(dào),選(xuǎn)擇反射(shè)鏡(jìng)替(tì)代光(guāng)柵(zhà)(或將光(guāng)柵波(bō)長設為“0”),可在(zài)光(guāng)譜儀(yí)CCD上(shàng)觀測(cè)暗場成像;選擇(zé)感(gǎn)興(xīng)趣的(dí)顆粒使(shǐ)其位於(yú)視場中心,狹縫調(tiáo)小(xiǎo),光(guāng)柵切(qiē)換到適當(dāng)的(dí)波長位(wèi)置,即可(kě)獲(huò)得(dé)暗場光(guāng)譜。

解決方案
先(xiān)鋒(fēng)科(kē)技針對(duì)暗(àn)場(cháng)散(sàn)射係統(tǒng)提(tí)供(gōng)靈活配(pèi)置,既可以(yǐ)為您提(tí)供獨立(lì)的(dí)純暗場(cháng)散射(shè)係統,亦(yì)可在(zài)標(biāo)準(zhǔn)的RTS2共(gòng)聚(jù)焦(jiāo)拉(lā)曼(màn)光譜係(xì)統上升(shēng)級(jí)暗(àn)場(cháng)散射功(gōng)能。

序號    項目(mù)    推(tuī)薦(jiàn)配(pèi)置(zhì)    說明(míng)
1    顯微鏡    正置(zhì):Leica DM2700M或(huò)Olympus BX51
倒置:主流(liú)倒置顯微(wēi)鏡(透射(shè)暗場(cháng))
必須配置電(diàn)動(dòng)樣(yàng)品台    如(rú)果要兼(jiān)容倒置拉(lā)曼(màn),則(zé)顯(xiǎn)微鏡(jìng)為Nikon Ti2-U或Olympus IX73/83雙層熒(yíng)光(guāng)轉(zhuǎn)盤(pán)光路(lù)
2    光譜儀(yí)    300或(huò)500mm焦(jiāo)長光譜儀(yí)
低刻(kè)劃(huá)密度光柵(zhà)    單窗口光譜範圍要(yào)求500-600nm
3    CCD相機    DU920,940,971(純暗場(cháng))
iVac316 (拉曼兼容(róng))    純(chún)暗場(cháng)需要較大(dà)靶(bǎ)麵的(dí)相機,拉(lā)曼(màn)兼(jiān)容(róng)可(kě)使用拉曼CCD相機

暗場(cháng)散(sàn)射實(shí)測結果(guǒ)

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